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石英晶體膜厚測量原理

更新時間:2025-09-29點擊次數(shù):88

石英晶體與振蕩器構(gòu)成諧振回路,產(chǎn)生一穩(wěn)定的振蕩信號。新晶片的振蕩頻率為6MHz,當(dāng)晶片上被鍍膜后,由于晶片重量及表面張力增加,其諧振頻率將會降低,此頻率變化由頻率計進行檢測,根據(jù)頻率變化率與材料密度和材料聲阻等參數(shù)計算出晶片上所鍍膜層的厚值。最后由單位時間內(nèi)膜層厚度的變化量計算出鍍膜速率。

首先將晶振片安裝在探頭前端,放入真空室。在監(jiān)控器中設(shè)置薄膜材料的“工具因子"(用于校準(zhǔn)密度和應(yīng)力等因素)和所需厚度。然后開始鍍膜,監(jiān)控器實時顯示當(dāng)前厚度和沉積速率。當(dāng)厚度達到預(yù)設(shè)值時,監(jiān)控器發(fā)出信號,自動關(guān)閉擋板或蒸發(fā)源,停止鍍膜。

膜厚儀可以直接測量質(zhì)量厚度,原理簡單,幾乎適用于所有類型的材料(金屬、介質(zhì)等),且可以同時監(jiān)控厚度和沉積速率,控制工藝穩(wěn)定性,相對光學(xué)法,設(shè)備和耗材(晶振片)成本更低。但是測量的是晶振片上的厚度,而非實際基片上的厚度,實際存在位置誤差。對溫度變化比較敏感,需要穩(wěn)定工況,切晶振片鍍膜過厚后會失效,需要更換。在使用時需要根據(jù)實際情況選擇膜厚儀的使用。

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